常见金属(表面)后处理简单介绍之--PVD涂层(仅供参考)
本文主要介绍了什么是涂层技术。气相沉积涂层加工技术的分类,涂层的功能特点及可应用行业等。
关键词:涂层;金属后处理

了解什么是PVD(Physical Vapor Deposition)涂层,有哪些作用,有哪些工艺流程,有哪些种类,可应用在哪些行业等。
典型应用:常见的工具、模具硬质镀膜以及各种功能膜层应用。
一、(PVD)涂层的基本介绍展开
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磁控离子溅射 涂层:在这里指的是通过气相沉积的方法在工件表面形成的薄膜。
PVD(Physical Vapor Deposition)即物理气相沉积,是指在真空条件下,用物理的方法将所用涂层源材料汽化成分子、原子或电离成离子并通过气相过程在衬底上沉积一层具有特殊性能的薄膜技术。
涂层沉积过程描述:源材料通过蒸发、升华、溅射和分解的过程,将粒子输送(粒子间发生碰撞,产生离化、复合反应,通过能量的交换及运动方向的改变)到基片(被加工件)凝结、成核、长大成膜。
常用的涂层技术方法有三大类:化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
二、(PVD)涂层的作用展开
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通过对工件表面进行涂层带来的好处有:可以增加工件的表面硬度、增加耐磨性、增加耐腐性、增加抗粘性、减少摩擦、延长产品的工作时间和使用寿命;从而提高生产率、降低生产成本、提高加工可靠性、提高质量、缩短交货时间、减少对环境的影响并节约资源、提高企业竞争力。
三、(PVD)涂层的理论计算展开
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略...
四、(PVD)涂层的应用实践展开
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国内常见表面处理方法的实践对比
分类 PVD CVD 镀硬铬 渗氮 说明:膜层厚度小于0.010mm的表面硬度为纳米硬度测试标准。 膜层材料 Tin, TiCN, CrN等 Tin, TiCN, TiC等 Cr Fe-N 膜层厚度 0.001~0.005mm 0.003~0.015mm 0.020~0.050mm 0.010~0.020mm 膜层硬度 2000~5000Hv 2300~2800Hv 900~1000Hv 900~1000Hv 与基材的结合力 良好 良好 差 -- 耐磨表现 良好 良好 差 差 耐热表现 良好 一般 一般 差 耐蚀表现 良好 一般 一般 差 膜层光洁度 可达光学精面 一般 良好 差 处理温度 300~600℃ 700~1000℃ 50~80℃ 500~700℃ 基材变形趋势 无变形 较严重 无变形 微变形 涂层的典型应用 PVD可以在不锈钢、铜、钛、锌铝合金等金属上镀制CrN, TiN, TiAlCN, TiCN, TiAlN等材料,可呈现金色、黄铜色、玫瑰金色、银白色、黑色、烟灰色、紫铜色、棕色、紫色、蓝色、酒红色、古铜色等颜色,并能根据用户的要求提供所需的颜色及质量,还可在塑料产品上镀制EMI膜 半透膜 透明膜 不导电膜等。
通过涂层技术带来的好处,已广泛应用机械、航天、建筑、汽车配件、电子产品及五金装饰等行业。
结束语展开
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通过以上了解,当然可根据实际情况,在适合的模具上加以应用还是可以的。因对模具做涂层加工也不便宜,主要考虑其性价比吧,好好计算下。
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